真空蒸镀

● 原理简单，操作方便，沉积参数易于控制
● 薄膜纯度高，可用于薄膜性质研究
● 沉积速率快、效率高，可多块同时蒸镀
● 适用材料较多
● 是PVD工艺中成本最低的

薄膜与衬底的附着性相对较差，工艺重复性不太理想

真空蒸镀用于高、低折射率材料的光学干涉镀膜、镜面镀膜、装饰镀膜、软包装材料上的渗透阻隔膜、导电膜、防腐蚀涂层等。沉积金属时，真空蒸镀有时也称为真空金属化。

溅射沉积

● 薄膜与衬底附着性好
● 薄膜纯度高
● 致密性好、无气孔
● 适用于大多数固体材料（特别是熔点高的材料），材料适用范围大
● 溅射镀工艺可控性和重复性好，便于工业化生产

● 设备复杂，沉积参数控制较难
● 沉积速率较低
● 沉积方向性不如真空蒸镀
● 溅射靶材通常较为昂贵
● 溅射沉积过程中，需仔细控制气体成分，防止靶材中毒

溅射沉积广泛用于在半导体材料上沉积薄膜金属化、建筑玻璃上的涂层、聚合物上的反射涂层、存储介质的磁性薄膜、玻璃和柔性网上的透明导电薄膜、干膜润滑剂、耐磨涂层在工具和装饰涂层上。

离子镀

● 薄膜与衬底附着性好
● 致密性高
● 耐磨耐腐蚀性好
● 材料适用范围大

● 有许多加工变量需要控制
● 通常很难在衬底表面获得均匀的离子轰击，导致薄膜特性发生变化
● 衬底可能加热过度
● 轰击气体可能会融入生长的薄膜中

离子镀用于在复杂表面上沉积复合材料的硬质涂层、附着金属涂层、高密度光学涂层和保形涂层。使用离子镀在航空航天部件上沉积铝膜称为离子气相沉积。