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什么是溅射靶材？
2023-11-28
 在溅射靶材的应用领域，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度和内部微观结构设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术，经过长期实践才能生产出符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求高，价格与半导体芯片相比，飞机显示器和太阳能电池对溅射靶材的纯度和技术要求略低，但随着靶材尺寸的增加，对溅射靶材的焊接结合率和平整度提出了更高的要求。此外，溅射靶材需要安装在溅射机台内完成溅射过程，溅射机台专用性强，对溅射靶材的形状、尺寸和精度也设定了诸多限制。 
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物理气相沉积（PVD）种类、特点及应用介绍
2023-05-09
什么是物理气相沉积（PVD）？物理气相沉积（Physicalvapordeposition，PVD）是一种在真空条件下采用物理方法，将固体或液体材料表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。物理气相沉积技术不仅可以沉积金属膜、合金膜 ，还可以沉积化合物 、陶瓷 、半导体 、聚合物膜等，是具有广泛应用前景的新材料制造技术。采用此技术制备的超硬薄膜不仅具有超高硬度，且超薄、耐高温、
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常见的热处理概念
2022-08-30
1.正火：将钢材或钢件加热到临界点Ac3或Acm以上的适当温度保持一定时间后在空气中冷却，得到珠光体类组织的热处理工艺。2.退火：将亚共析钢工件加热至Ac3以上30—50℃，保温一段时间后，随炉缓慢冷却（或埋在砂中或石灰中冷却）至500℃以下在空气中冷却的热处理工艺。3.固溶热处理：将合金加热至高温单相区恒温保持，使过剩相充分溶速冷却，以得到过饱和固溶体的热处理工艺。4.时效：合金经固溶热处理或冷塑性形变后，在室温放置或稍高于室温保持时，其性能随时间而变化的现象。5.固溶处理：使合金中各种相充分
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热喷涂技术的研究现状与发展趋势
2022-08-09
摘 要：热喷涂技术由于具有极大优势而被广泛的应用在工程领域中。主要讲述热喷涂技术的研究现状、发展趋势，包括主火焰喷涂技术、等离子喷涂技术、超音速火焰喷涂技术、电弧喷涂技术、超音速电弧喷涂技术以及冷喷涂技术等，并介绍这些热喷涂技术的研究发展与应用。 关键词：热喷涂技术；研究进展；超音速火焰喷涂技术；等离子喷涂技术；冷喷涂技术热喷涂技术是一种将涂层材料(粉末或丝材)送入某种热源(电弧、燃烧火焰、等离子体等)中熔化，并利用高速气流将其喷射到基体材料表面形成涂层的 工艺[
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真空等离子喷涂
2022-07-12
大气中，等离子焰流一离开喷嘴就从周围吸入大量空气。在100mm喷距时，吸入空气量可占等离子体的90%以上。常压等离子喷涂时，金属粉末氧化严重。另外，有些有毒材料（如铍及氧化铍）无法在大气中喷涂。为解决上述问题，提出了低压等离子喷涂。真空等离子喷涂又称低压等离子喷涂，是在低于大气压的低真空的密闭空间里进行的等离子喷涂（受控环境的喷涂技术）。受控环境的喷涂技术将我们对等离子喷涂的认识向前推进了一步。在喷涂室内操作喷枪，使环境得到完全控制。这样生产出来的涂层的特性是不可能在标准大气环境下生产出来的。环
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